光譜磨平機GPM-2-300
金相試樣制備和光譜分析應(yīng)用中，試樣的磨平是金相制樣和光譜分析前必不可少的重要工序。GPM-2-300型光譜磨平機整機采用噴塑工藝制作，雙盤獨立控制，磨盤無級調(diào)速，獨特罩殼設(shè)計可有效保障磨樣安全，機箱內(nèi)裝有吸塵裝置可避免環(huán)境污染，該機啟動平穩(wěn)、傳動功率大、噪音低，可滿足不同材料的制備要求，提高試樣的磨拋質(zhì)量和制備效率，是一種非常理想和功能完善的金相制樣制備。
主要參數(shù)：
| 型號 |
GMP-2-300 |
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磨盤直徑 |
300mm |
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砂紙直徑 |
300mm |
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轉(zhuǎn)速 |
無級調(diào)速100~1400r/min |
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轉(zhuǎn)向 |
順時針或逆時針 |
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電機功率 |
550W |
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顯示及操作 |
數(shù)碼管顯示，薄膜按鍵操作，帶吸塵裝置 |
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輸入電源 |
單相220V, 50Hz, 10A |
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外形尺寸 |
820×440×940mm |
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凈重 |
122kg |
標準配置：
| 名稱 |
規(guī)格 |
數(shù)量 |
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主機 |
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1臺 |
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磨盤 |
300mm |
2個 |
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砂紙 |
300mm |
2張 |
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內(nèi)六角扳手 |
5mm |
1把 |
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說明書 |
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1份 |
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合格證 |
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1份 |